English
简体中文
憑藉其獨特的光學設計技術，新一代PL mapping測試儀, Model Imperia能夠檢測並分類導致產能下降的外延結構缺陷, 同時獲得最先進的光致發光譜作為產品監控。
通過更準確的預測MOCVD的產能和PM安排,獲得顯著的成本降低.結合這兩個後外延。
測試監控功能的合併入單一高產能測試系統,可以最大限度地減少寶貴的工廠空間使用和晶圓取放片時間。
如需瞭解詳情請聯繫我司銷售人員
02-27973357
sales@quatek.com.tw
