全自動膜厚測試儀

  • 產品型號:NanoSpec II
  • 制造原廠:Nanometrics Inc.

專用於測試半導體工藝中所製備的不同薄膜的厚度和全片厚度分佈的測試儀,其採用專用的NANO演算法,可以對不同制程中的薄膜特性進行監控.此系統可相容到12inch的半導體晶圓並進行全片測試. 其採用頂級光學元件和領先的光路系統,可以最大限度的保證測試的重複性和精度.自帶有CCD視頻和偏置光系統,提供最適合半導體薄膜的監控.因Nanospec系統在半導體工廠中廣泛的使用,其對於半導體設備廠家和代工廠都具有重要的標準溯源意義    



  • 光譜範圍 200nm – 800nm

  • 膜厚測試範圍 35Å-20um

  • 光斑大小 14um

  • 膜厚測試動態重複性
    3.5-10nm <1Å
    10nm-100nm <0.8Å
    100nm-500nm <0.08%
    500nm-20um <0.05%

  • 膜厚測試精度
    100-200Å ±5Å
    300Å-1um ±0.5%
    1um-20um ±0.2%

  • 反射率精度
    248nm ±0.5%
    365nm ±0.5%
    633nm ±0.5%