反射和透射分光光度法
具有自動化XY平臺的FilmTek™1000 FilmTek™1000M
FilmTek™1000系列是用於常規測量薄膜厚度和折射率的精確且經濟實惠的解決方案。它將光纖分光光度計與直觀的高性能材料建模軟體相結合,使日常測量任務可靠簡單。
FilmTek™1000M配置具有小的光斑尺寸,並配備手動或可選自動XY工作臺,以適應75-300mm晶圓尺寸。FilmTek™1500可測量正常入射時的透射率和反射率,是透明基材的理想選擇。
FilmTek™套裝軟體含完全用戶可定制的映射功能,可快速生成任何測量參數的2D和3D資料圖。除使用者定義的模式外,標準地圖模式還包括極座標,XY,rθ或線性。
測量功能:
FilmTek™1000/1500結合SCI的廣義材料模型和先進的全域優化演算法,可同時測定:
多層厚度
折射率[n(λ)]
消光(吸收)係數[k(λ)]
低成本
FilmTek™1000/1500的擁有成本只是可比儀器的一小部分。
直觀的
FilmTek™1000軟體的設計使得在薄膜光學設計或測量技術方面需要最少的經驗。
應用
幾乎所有厚度從100埃到150微米的半透明膜都可以高精度測量。典型應用包括:
半導體和電介質材料
多層光學鍍膜
光學增透膜
電光材料
電腦磁片
塗層玻璃
鐳射鏡
薄金屬
示例薄膜種類
SiOx
氮化矽
DLC
SOG
光刻膠
a-Si
a-C:H
ITO
多晶矽
聚醯亞胺
低k電介質薄膜
薄金屬
硬體
FilmTek™1000/1500包括:
VIS / NIR分光光度計
VIS / NIR光源
光纖電纜
固定平臺與光學系統
運行Windows™7作業系統的多核處理器的電腦
可選功能:
電腦控制的自動平臺
用於查看測量位置的相機(僅適用於FilmTek TM 1000M)
FilmTek™1000 / 1000M / 1500技術規格 | |
薄膜厚度範圍: | 10nm-350μm(10nm-150μm標準) |
薄膜厚度準確度: | NIST可溯源標準氧化物1000Å至1μm±2Å |
光譜範圍: | 在380nm-950NM |
FilmTek™1000/1500測量點尺寸: | 2mm至5mm(5mm標準) |
FilmTek™1000M測量光斑尺寸: | 60μm(4x物鏡)或24μm(10x物鏡) |
樣本量: | 2mm至300mm |
光譜解析度: | 為0.3nm |
FilmTek™1000/1500光源: | 穩定的鹵素燈(壽命為10,000小時) |
FilmTek™1000M光源: | 穩定的鹵素燈(使用壽命為2000小時) |
檢測器類型: | 2048圖元索尼線性CCD陣列 |
電腦: | 帶有Windows™7作業系統的多核處理器 |
測量時間: | 每個部位<1秒(例如氧化膜) |
性能规格 | |||
薄膜(S) | 厚度 | 测量参数 | 精度(1σ) |
氧化物/硅 | 100-1000nm | t | 0.05纳米 |
1-150微米 | t | 0.005%Å |