高級微區光譜反射儀

  • 產品型號:FilmTek 2000M
  • 制造原廠:Scientific Computing International

DUV-NIR 光譜反射儀

FilmTek™2000測試系統專為快速,可靠,準確地表徵幾乎所有未圖案化的薄膜而設計。FilmTek™2000是一款完全集成的系統,結合了DUV-NIR光纖分光光度計,自動測試台和先進的材料模型軟體,使得即使是最嚴格的測量任務也能既可靠又直觀。

FilmTek™套裝軟體含完全用戶自訂的晶圓多點測試功能,可快速生成任何測量參數的2D和3D資料圖。除使用者定義的模式外,標準模式還包括極座標,X-Y,rθ或線性。

FilmTek™2000將SCI的廣義材料模型與先進的全域優化演算法結合在一起,可在每個測試點於1秒內同時測定多個薄膜參數。

測試能力

同時測定:

  • 多層膜厚

  • 折射率[n(λ)]

  • 消光(吸收)係數[k(λ)]

  • 能帶隙[Eg]

  • 組成(例如,SiGex中的%Ge,GaxIn1-xAs中的%鋁在Al x Ga 1-x As等中)

  • 表面粗糙度

  • 成分,空隙率

  • 結晶度/非晶化度(例如,多晶矽或GeSbTe薄膜的結晶度)

  • 薄膜梯度

低成本

  • FilmTek™2000的擁有成本僅為可比的自動化臺式計量系統的一小部分。

直觀的,完全自動化的系統

  • 與DUV-NIR光纖分光光度計,自動測試台,電腦和高級材料模型軟體完全集成的系統。 FilmTek™2000軟體可自動進行測量校準,資料獲取和分析,因此不需要操作者具備薄膜光學設計或測量技術的經驗。

技術規格:

  • 膜厚範圍: 5nm-150um

  • 膜厚精度:±1.5Å(基於NIST追溯氧化物薄膜,100nm到1um厚度)

  • 波長範圍:190nm-1700nm(標準配置240nm-1000nm)

  • 測試點尺寸:2mm-5mm(標準配置5mm)

  • 樣品尺寸:2mm-300mm (標準配置150mm測試台)

  • 光譜解析度:0.3-2nm

  • 光源:氘鹵素燈(壽命2,000小時)

  • 探測器類型: 2048圖元CCD陣列/512圖元 InGaAs陣列(NIR)

  • 測試時間:小於1s/點(氧化物薄膜典型值)

  • 資料獲取時間:0.2s


技術規格

薄膜厚度範圍:

5nm350μm(標準為5nm150μm

薄膜厚度準確度:

NIST可溯源標準氧化物1000Å1μm±1.5Å

CD精度():

<0.2

光譜範圍:

380nm1700nm380nm1000nm是標準)

測量點大小:

2μm5×10μm標準,10倍物鏡)

樣本量:

2mm300mm(標準為150mm

光譜解析度:

0.3-2nm

光源:

穩定的鹵素燈(壽命2,000小時)

檢測器類型:

2048圖元索尼線性CCD陣列/ 512圖元冷卻濱松InGaAs CCD陣列(NIR

電腦:

帶有Windows™7作業系統的多核處理器

測量時間:

每個部位<1秒(例如氧化膜)

性能规格

电影(S

厚度

测量参数

精度(

氧化物/

50-1000nm

t

0.025纳米

1-150微米
 
 

t

0.005