專供複合半導體GaN&GaAs使用之自動化量產型電漿輔助化學氣相沉積系統, 佔地面積小, 高產出, 低維修成本. 超過40年經驗的設備製造經驗
大批量生產和COO減量的藝術設計狀態
與VDS-5800SNC相比，VDS-5800SNC-L能夠將批量容量提高40％，同時保持沉積品質和均勻性的一致。
優越的薄膜厚度和薄膜品質均勻性
每批次處理後的氣體清潔有助於提高品質並改善其薄膜厚均勻性。
卓越的薄膜厚度和薄膜品質可重複性
下圖是一張表示200批次可重複性的圖示。
（沉積→清洗→沉積）
折射率和薄膜厚度具有非常好的重複性
壓力控制
下圖是一張表示壓力變化的圖表
RF頻率可以控制壓力
VDS-5800SNC | VDS-5800SNC-L | ||
晶圓容量 | 2inch | 30 | 42 |
3inch | 15 | 21 | |
4inch | 9 | 12 | |
6inch | 5 | 8 | |
基座 | Φ527mm | Φ670mm | |
频率 | 400kHz/13.56MHz | ||
沉積率範圍 | 5～110nm/min | ||
薄膜應力控制 | 是 | ||
均勻性 | 3％以下 | ||
稼動率 | 97%以上 | ||
選項 | 實時製程監控 | ||
