手動光刻機

  • 產品型號:Model 200
  • 制造原廠:OAI INSTRUMENTS

OAI 200型掩模光刻機是一款經濟高效的高性能掩模光刻系統,採用業界認可的元件,使OAI成為光刻資本設備行業的領導者。 200型是一款臺式掩模光刻機,需要最小的潔淨室空間。它為研發提供了一種經濟替代方案,或者應用於有限的規模試產。利用創新的空氣軸承/真空吸盤校平系統,可快速平穩地校平基板,以便在接觸曝光期間實現平行光掩膜對齊和晶片均勻接觸。該系統具有1微米的解析度和對準精度。

對準模組具有掩模插入套件和快速更換的晶圓卡盤,便於使用各種基材和掩模,無需特殊工具進行重新配置。對齊模組包含X,Y和Z軸的千分尺。

200型掩模對準器具有可靠的OAI紫外線光源,可在近紫外或深紫外線下使用功率範圍為200至2000瓦的燈提供准直紫外光。雙感測器光學反饋回路與恒定強度控制器相連,以提供曝光強度控制在理想強度的±2%範圍內。可以快速輕鬆地對UV波長進行更改。該掩模Aligner是任何入門級掩模對準和UV曝光應用的靈活經濟的解決方案。

  • 僅需要很小的潔淨室空間

  • 對襯底的損傷降低到最低

  • 對準精度1um

  • 廣泛適用於多種襯底與光罩

  • 背面對準支持IR穿透

  • 晶圓光刻精度支持3-5um

  • 高對準精度,高均勻性UV光源

  • 迅速切換UV光源波長

  • 曝光均勻性在2%以內

  • 可用于納米列印工具

  • 可選配微流體研究模組  


襯底平臺

XY行程

±10mm


Z行程

1500 microns


千分尺

.001"; .0001"


刻度

.01mm;  0.001mm


旋轉

±3.5˚

掩膜

尺寸

高達9“x 9”

光源

光束尺寸

高達8“平方


燈泡功率

2003505001,000,和



2,000 Watt NUV



500,10002,000 Watt DUV

快門計時器

計時器

0.1秒增量時 0.199.0 sec



或在1秒增量時 1999 sec

設備

電力

110220 vac



(根據電源要求和國家地區來設定其他電壓值)


真空

20 - 28“Hg.


空氣和N2

排氣

60 PSI上的CDA40   PSI上的N2

.35“.5” Water

外形尺寸

高度

37“940mm


寬度

31“788mm”


深度

25“635mm


裝運重量

250 lbs.