OAI 200型掩模光刻機是一款經濟高效的高性能掩模光刻系統,採用業界認可的元件,使OAI成為光刻資本設備行業的領導者。 200型是一款臺式掩模光刻機,需要最小的潔淨室空間。它為研發提供了一種經濟替代方案,或者應用於有限的規模試產。利用創新的空氣軸承/真空吸盤校平系統,可快速平穩地校平基板,以便在接觸曝光期間實現平行光掩膜對齊和晶片均勻接觸。該系統具有1微米的解析度和對準精度。
對準模組具有掩模插入套件和快速更換的晶圓卡盤,便於使用各種基材和掩模,無需特殊工具進行重新配置。對齊模組包含X,Y和Z軸的千分尺。
200型掩模對準器具有可靠的OAI紫外線光源,可在近紫外或深紫外線下使用功率範圍為200至2000瓦的燈提供准直紫外光。雙感測器光學反饋回路與恒定強度控制器相連,以提供曝光強度控制在理想強度的±2%範圍內。可以快速輕鬆地對UV波長進行更改。該掩模Aligner是任何入門級掩模對準和UV曝光應用的靈活經濟的解決方案。
僅需要很小的潔淨室空間
對襯底的損傷降低到最低
對準精度1um
廣泛適用於多種襯底與光罩
背面對準支持IR穿透
晶圓光刻精度支持3-5um
高對準精度,高均勻性UV光源
迅速切換UV光源波長
曝光均勻性在2%以內
可用于納米列印工具
可選配微流體研究模組
襯底平臺 | X,Y行程 | ±10mm |
Z行程 | 1500 microns | |
千分尺 | .001"; .0001" | |
刻度 | 或.01mm; 0.001mm | |
旋轉 | ±3.5˚ | |
掩膜 | 尺寸 | 高達9“x 9” |
光源 | 光束尺寸 | 高達8“平方 |
燈泡功率 | 200,350,500,1,000,和 | |
2,000 Watt NUV | ||
500,1000和2,000 Watt DUV | ||
快門計時器 | 計時器 | 在0.1秒增量時 0.1至99.0 sec |
或在1秒增量時 1至999 sec | ||
設備 | 電力 | 110或220 vac |
(根據電源要求和國家地區來設定其他電壓值) | ||
真空 | 20 - 28“Hg. | |
空氣和N2 排氣 | 60 PSI上的CDA和40 PSI上的N2 .35“至.5” Water | |
外形尺寸 | 高度 | 37“(940mm) |
寬度 | 31“(788mm” | |
深度 | 25“(635mm) | |
裝運重量 | 250 lbs. |