大面積光刻機

  • 產品型號:Model 212
  • 制造原廠:OAI INSTRUMENTS

Model 212大面積光刻機是一款性價比高、性能優良的臺式光刻機,它只需要佔用極小的潔淨室空間,為大尺寸晶圓、LCD、薄膜電晶體、FPD和OLED的研發提供了一種經濟型選擇。利用OAI創新的真空平臺,支援大尺寸產品(最高可達12'x12 '或300mm×300mm)快速、輕柔地懸浮起來,以便在曝光時進行光掩模對齊和均勻接觸。該系統具有1微米解析度和對齊能力。

校準模組的特點是掩模插入快速可更換晶圓,使用各種襯底和面罩無需特殊工具。Model 212型大面積光刻機的特點是經過驗證的OAI紫外光源,它在近、中、深紫外光中使用200 - 2000瓦功率的燈具提供高解析度紫外光。雙感測器光學反饋回路連接到恒光強控制器,以控制曝光強度在期望強度的2%以內。

特點:

  • 低成本的大型晶圓研發工具

  • 一種多功能的工具,可以容納較小的襯底和面具-易於升級為更大的襯底

  • 用於封裝、FPD、OLED、半導體晶圓研發

  • 與OAI Model 200桌上型光刻機規格相同

襯底尺寸


最大12” or 300mm

襯底平臺

X, Y行程

±10mm


Z 行程

5mm


千分尺

.001”; .0001”


刻度

or .01mm; .001mm


旋轉

±3.5˚

掩膜

尺寸

最大14” x 14”

光源

光束尺寸

最大 12” 平方


燈泡功率

200, 350, 500, 1,000, and 2,000 Watt NUV                                                        

500, 1,000 and 2,000 Watt DUV

快門計時器

計時器

0.1秒增量時 0.199.0 sec                                                                                 

或在1秒增量時 1999 sec

設備

電力

110 or 220 vac (根據電源要求和國家地區來設定其他電壓值)


真空

20 - 28” Hg.


空氣和N2

CDA at 60 PSI and Nat 20 PSI


排氣

0.35” to 0.5” Water

外形尺寸

高度

42” (1067mm)


寬度

60” (1524mm)


深度

53” (1346mm)