Model 212大面積光刻機是一款性價比高、性能優良的臺式光刻機,它只需要佔用極小的潔淨室空間,為大尺寸晶圓、LCD、薄膜電晶體、FPD和OLED的研發提供了一種經濟型選擇。利用OAI創新的真空平臺,支援大尺寸產品(最高可達12'x12 '或300mm×300mm)快速、輕柔地懸浮起來,以便在曝光時進行光掩模對齊和均勻接觸。該系統具有1微米解析度和對齊能力。
校準模組的特點是掩模插入快速可更換晶圓,使用各種襯底和面罩無需特殊工具。Model 212型大面積光刻機的特點是經過驗證的OAI紫外光源,它在近、中、深紫外光中使用200 - 2000瓦功率的燈具提供高解析度紫外光。雙感測器光學反饋回路連接到恒光強控制器,以控制曝光強度在期望強度的2%以內。
特點:
低成本的大型晶圓研發工具
一種多功能的工具,可以容納較小的襯底和面具-易於升級為更大的襯底
用於封裝、FPD、OLED、半導體晶圓研發
與OAI Model 200桌上型光刻機規格相同
襯底尺寸 | 最大12” or 300mm | |
襯底平臺 | X, Y行程 | ±10mm |
Z 行程 | 5mm | |
千分尺 | .001”; .0001” | |
刻度 | or .01mm; .001mm | |
旋轉 | ±3.5˚ | |
掩膜 | 尺寸 | 最大14” x 14” |
光源 | 光束尺寸 | 最大 12” 平方 |
燈泡功率 | 200, 350, 500, 1,000, and 2,000 Watt NUV 500, 1,000 and 2,000 Watt DUV | |
快門計時器 | 計時器 | 在0.1秒增量時 0.1至99.0 sec 或在1秒增量時 1至999 sec |
設備 | 電力 | 110 or 220 vac (根據電源要求和國家地區來設定其他電壓值) |
真空 | 20 - 28” Hg. | |
空氣和N2 | CDA at 60 PSI and N2 at 20 PSI | |
排氣 | 0.35” to 0.5” Water | |
外形尺寸 | 高度 | 42” (1067mm) |
寬度 | 60” (1524mm) | |
深度 | 53” (1346mm) |