FilmTekTM CD光学关键尺寸系统是SCI针对1x nm设计节点及更高级别的全自动化，高通量光盘测量和高级薄膜分析的领先解决方案。该系统同时提供实时多层堆栈特征和CD测量，用于已知和完全未知的结构。
FilmTekTM CD采用专利的多模式测量技术来满足与开发和生产中最复杂的半导体设计特点相关的挑战性要求。这项技术能够测量极小的线宽，在10nm以下的高精度测量。
薄膜厚度范围：0至150μm
膜厚精度：NIST可溯源标准氧化物的±1.0Å100Å至1μm
光谱范围：190nm至1000nm（标准为220nm至1000nm）
测量点尺寸：50μm光谱分辨率：0.3nm
光源：调节氘灯卤素灯（2000小时寿命）
探测器类型：2048像素索尼线性CCD阵列
计算机：多核处理器与Windows™7操作系统
测量时间：约2秒（如氧化膜）
