Qphoton-L 為客戶提供精確且經濟的薄膜膜厚測量系統，針對太陽能絨面測試需求做了更貼合 的設計與算法，可對奈米薄膜厚度、折射率n及消光系數k進行快速、高精度、高準確度的測量，尤其 適合於工業產品和學術研究中的量產檢測，新品研發，可用於表征單層奈米薄膜、多層奈米層膜厚。 應用領域涉及納奈米薄膜的幾乎所有領域，如微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學 薄膜、生命科學、電化學、磁介質存儲、聚合物及金屬表面處理等，可同時測定:
·多層薄膜厚度 ·折射率n
·消光(吸收)系數k
薄膜厚度範圍:
1~2000nm
薄膜厚度精度:
SiO2-100nm 標樣膜厚精度0.5nm; 重復性±0.2nm; 折射率精度: 0.005; 重復性:±0.002
Si/Si3N4/Al2O3 樣品膜厚精度0.5nm;重復性±0.2nm;折射率精度: 0.005; 重復性:±0.002
雷射光源:
635nm (其他波長可選)
光斑尺寸:
2~4mm(option:100/200um)
入射角範圍:
45°~90°(手動5°步進)
載物臺:
兼容 220 mm * 220mm 及以下尺寸樣品
輸出:
Qview軟件簡明顯示測試結果並可上報客戶系統
測量速度:
1~3秒/點
電腦:
配備Windows 10操作系統的多核處理器
尺寸:
長670*深390*高370mm
重量:
22Kg
