专用于测试半导体工艺中所制备的不同薄膜的厚度和全片厚度分布的测试仪,其采用专用的NANO算法,可以对不同制程中的薄膜特性进行监控.此系统可兼容到12inch的半导体晶圆并进行全片测试. 其采用顶级光学组件和领先的光路系统,可以最大限度的保证测试的重复性和精度.自带有CCD视频和偏置光系统,提供最适合半导体薄膜的监控.因Nanospec系统在半导体工厂中广泛的使用,其对于半导体设备厂家和代工厂都具有重要的标准溯源意义
光谱范围 200nm – 800nm
膜厚测试范围 35Å-20um
光斑大小 14um
膜厚测试动态重复性
3.5-10nm <1Å
10nm-100nm <0.8Å
100nm-500nm <0.08%
500nm-20um <0.05%
膜厚测试精度
100-200Å ±5Å
300Å-1um ±0.5%
1um-20um ±0.2%
反射率精度
248nm ±0.5%
365nm ±0.5%
633nm ±0.5%
