光譜透反射橢偏儀

  • 產品型號:FilmTek™ 3000
  • 制造原廠:Scientific Computing International

DUV-NIR反射和透射分光光度法

FilmTek™3000組合反射透射分光光度計能夠對沉積在透明基底上的未圖案化薄膜進行高效,準確的透射和反射測量。它非常適合測量非常薄的吸收膜的厚度和光學常數。

FilmTek™3000是一款完全集成的套裝軟體,結合了DUV-NIR光纖分光光度計,自動舞臺和先進的材料建模軟體,使得即使是最嚴格的測量任務也可靠直觀。

FilmTek™套裝軟體含完全用戶可定制的映射功能,可快速生成任何測量參數的2D和3D資料圖。除使用者定義的模式外,標準地圖模式還包括極座標,XY,rθ或線性。

FilmTek™3000可進一步配置以滿足更多特定測量需求,包括用於平板顯示器應用的大型自動化平臺。
配備偏振測量選件時,FilmTek™3000P結合了光譜反射,透射和偏振測量,可準確同時測定光學常數和雙折射。

測量功能:

FilmTek™3000結合了SCI的廣義材料模型和先進的全域優化演算法,可同時測定:

  • 多層厚度

  • 折射率[n(λ)]

  • 消光(吸收)係數[k(λ)]

  • 能帶隙[E g ]

  • 成分,空隙分數

  • 表面粗糙度

可選功能:

  • 平板顯示器應用的大型定制平臺

  • 自動化樣品處理

  • SECS / GEM

應用

幾乎所有半透明薄膜的厚度範圍從小於100埃到大約150微米都可以高精度測量。典型應用包括:

  • 平板顯示器

  • 電介質材料

  • 多層光學鍍膜

  • 光學增透膜

  • 電光材料

  • OLED

  • 太陽能電池

  • 塗層玻璃

  • 鐳射鏡

  • 薄金屬

示例薄膜種類

  • SiOx

  • 氮化矽

  • DLC

  • SOG

  • 光刻膠

  • 薄金屬

  • 多晶矽

  • 聚醯亞胺

  • 彩色染料

  • a-Si

  • a-C:H

  • ITO

  • Alq3

  • HIL

  • BEML

  • GEML

  • GETL

  • REML


技術規格

薄膜厚度範圍:

3nm150μm

薄膜厚度準確度:

NIST可溯源標準氧化物1000Å1μm±1.5Å

光譜範圍:

220nm1700nm(標準為240nm1000nm

測量點大小:

3毫米

樣本量:

2mm500mm150mm為標準尺寸,根據要求可提供更大尺寸)

光譜解析度:

0.3-2nm

光源:

受控氘鹵素燈(壽命2,000小時)

檢測器類型:

2048圖元索尼線性CCD陣列/ 512圖元冷卻濱松InGaAs CCD陣列(NIR

電腦:

帶有Windows™7作業系統的多核處理器

測量時間:

每個部位<1秒(例如氧化膜)

性能规格

电影(S

厚度

测量参数

精度(

氧化物/

200-500Å

t

0.5Å

500-10,000Å

t

0.25Å

1000Å

tn

0.25 / 0.001

氮化物/

200-10,000Å

t

0.5Å

光刻胶/

200-10,000Å

t

0.5Å

a-Si /氧化物/ Si

2 00-10,000Å

t

0.5Å